光刻机

半导体三巨头（intel，三星，台积电）是荷兰ASML的股东，拥有优先提货权。所以有人说ASML的霸主地位结束了日本电子时代，才成就了今天的半导体三巨头。但也有人反过来思考，认为正是半导体三巨头（intel，三星，台积电）的工程师当初不安于现状才成就了ASML的光刻机霸主地位。20年前的intel，三星，台积电的工程师们也许只能和尼康佳能的光刻机打交道，被迫接受着日本工匠式的教条灌输和培训，但他们一直想着换花样。光刻机从immersion革新到dual scan 这种异想天开的方案，当时面临很多风险，背后的市场需求支撑就是intel、台积电、三星工程师的各种天马行空般尝试，扰乱利益关联产业链的代价是必须的。被日本工匠们鄙视为不踏实的浮躁韩国工程师，美国工程师，台湾工程师和ASML那些异想天开的天才们一同埋葬了日本的半导体产业。

光刻机（Mask Aligner) 又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫 Mask Alignment System.

一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。

Photolithography（光刻） 意思是用光来制作一个图形（工艺）；

在硅片表面匀胶，然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程。